受全球缺芯潮的影响，2021年开年以来各大晶圆代工厂都在持续扩充成熟工艺的产能，以抓住机遇拿下更多的市场份额。

日前，中国大陆第一大专业晶圆代工巨头中芯国际便官宣喜讯，与台积电之间的差距再次缩小。

8月5日晚间，中芯国际正式公布2021年第二季度财务报告，报告中内容显示， 该公司在报告期内实现营收13.4亿美元，相比2020年同期增长43.2%。

归母净利润达到6.88亿美元，同比增幅高达398.5%。

上述两项基础指标足以证明，中芯国际在今年第二季度的发展状况十分良好，且业绩表现突出。

而中芯国际的营业收入和归母净利润大幅上涨的原因，笔者认为主要是受到了下游市场供不应求的影响。

在财报电话会议上，中芯国际CEO赵海军也透露道， 该公司的FinFET工艺订单供不应求。

目前， FinFET工艺（指14/12nm工艺）每月产能为1.5万片，但多样化客户的不断涌入导致中芯国际仍然需要在扩充28nm成熟工艺产能的同时，扩充14nm工艺产能。

此外，根据此前的报告可知，中芯国际的N+1工艺已经进入规模量产阶段。

N+1工艺是中芯国际在缺少EUV光刻机的情况下，自主研发出的全新工艺。

根据梁孟松博士透露， N+1工艺相比现有的14nm工艺，在性能方面提升了20%，功耗有57%的降低，逻辑面积和SoC面积均有缩小。

而且从逻辑面积缩小的数据来看，与使用EUV光刻机研发出的7nm工艺十分相近。

但N+1工艺的性能提升幅度小于业界35%的标准提升幅度，因此中芯国际的N+1工艺主要面向低功耗应用。

至于真正的7nm工艺，按照梁孟松透露出的消息，应该在今年4月份就进入了风险量产阶段。

而且，最关键也最艰巨的事关5nm、3nm的8大项技术也已经有序展开研发， 可以说目前中芯国际万事俱备，只欠EUV光刻机。

然而，因为众所周知的原因影响，荷兰光刻机巨头阿斯麦对中国市场实施限制出口，我国企业无法进口EUV光刻机。

这就是现阶段中国半导体产业无法继续深入高精度工艺研发的关键原因，也是造成大陆晶圆代工厂与台积电、三星电子等代工巨头之间的差距很难消除的主要因素。