ASML研发新一代EUV光刻机:2025年量产,性能提升70%

admin 2019-7-4 1981

2016年ASML公司宣布斥资20亿美元收购德国蔡司公司25%的股份,并投资数亿美元合作研发新一代透镜,而ASML这么大手笔投资光学镜头公司就是为了研发新一代EUV光刻机。

日前,韩媒报道称ASML公司正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有的光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化就是High NA(高数值孔径)透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。

在这个问题上,ASML去年10月份就宣布与IMEC比利时微电子中心合作研发新一代EUV光刻机,目标是将NA从0.33提升到0.5以上,而从光刻机的分辨率公式——光刻机分辨率=k1*λ/NA中可以看出,NA数字越大,光刻机分辨率越高,所以提高NA数值孔径是下一代EUV光刻机的关键,毕竟现在EUV极紫外光已经提升过一次了。

之前ASML公布的新一代EUV光刻机的量产时间是2024年,不过最新报道称下一代EUV光刻机是2025年量产,这个时间上台积电、三星都已经量产3nm工艺了,甚至开始进军2nm、1nm节点了。

在光刻机这个领域,荷兰的ASML公司是毫无疑问的王者。目前最先进的光刻机就是来自这家ASML公司生产的EUV光刻机,每台售价超过1亿美元,而且供不应求。

ASML主要业务是光刻机,在光刻机领域处于绝对领先的地位。在45纳米以下制程的高端光刻机市场中,占据80%以上的市场份额,而在EUV光刻机领域,目前处于绝对垄断地位,市占率为100%,处于独家供货的状态。阿斯麦的主要客户为全球一线的晶圆厂,除了英特尔、三星和台积电这三大巨头之外,国内的中芯国际也是阿斯麦的客户。

科普一下,阿斯麦的光刻机按照使用的光源不同,可以分为DUV光刻机和EUV光刻机。DUV是Deep Ultra Violet,即深紫外光;EUV是Extreme Ultra Violet,即极紫外光。DUV光刻机的极限工艺节点是28nm,要想开发更先进的制程,就只能使用EUV光刻机了。



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